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大氣真空等離子清洗機(jī)廠家作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。

該等離子體技術(shù)應(yīng)用內(nèi)置高純石英倉體，采用了新型的電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn) 樣品清洗 和教學(xué)。

小型離子濺射儀KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。

KT-1650PVD小型濺射儀 是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

等離子清洗機(jī)作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。